• 一、 設備基本原理及主要用途

• 1. 設備用途

• 適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。本設備具有可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高等特點。綜合性能指標較高，處于國內水平。根據不同的使用氣氛及使用溫度，使用不同的加熱元件，型號，對需在惰性氣體環境下燒結的材料，本設備是一個非常好的選擇，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

• 二、 主要技術參數

• 1. 加熱功率：   5KW

•     加熱形式：   1400型硅碳棒

•                        左右兩面加熱，溫場均勻，能耗低

•  升溫速率建議:10℃/Min Max:20℃/Min

• 1. 爐膛尺寸：    500mm*400mm*400mm（長方體）

• 2. 外形尺寸：    4800mm*5300mm*5600mm(高/寬/長）

• 3. 保溫材料：    1400型高純氧化鋁微晶體纖維，保溫性能好

• 4. 裝料方式：    前側裝料

• 5. 氣氛種類：    惰性氣體（氮氣，氬氣）

• 6. 常規中空度：  6.7x10^(-2) Pa

• 7. 極限真空度：  6.7x10^(-3) Pa

• 8. 極限充氣壓力：≤0.05Mpa

• 9. 長期使用壓力：≤0.04Mpa（微正壓、表壓）

• 10. 控制精度：    ±1 ℃

• 11. 熱電偶型號：B型

• 12. 溫控控制：    30段程序控溫系統，PID控制

• 13. 內外層爐殼：  SECC鋼板防銹處理，并經粉體烤漆處理

• 14. 設備表面溫度：≤60℃

• 15. 數據導出系統：可通過USB將升降溫工藝導出，曲線圖顯示

• 一、 結構組成

• 真空電阻爐主要由爐體、加熱保溫系統、真空系統、氣氛控制系統、水冷系統、電器控制系統等組成。

          VRSF1200系列真空電阻爐：

• VRSF12-10	100*100*100	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	1 KW	單相 220V	電阻絲	K型
  VRSF12-30	300*200*200	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	4 KW	單相 220V	電阻絲	K型
  VRSF12-40	400*300*300	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	9 KW	三相 380V	電阻絲	K型
  VRSF12-50	500*400*400	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	15 KW	三相 380V	硅碳棒	K型
  VRSF12-60	600*600*600	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	40 KW	三相 380V	硅碳棒	K型

可根據客戶實際使用溫度、尺寸定制。