品牌:CL-晨立 | 規格:CL4514-3 |
程控高低溫擴散爐 |
外型形式:臥式1—4管結構 程控高低溫 擴散爐主要滿足半導體電力電子器件行業、大功率集成電路等行業,對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。 技術指標: 可處理硅片尺寸:2—8英寸 工作溫度:200℃—1300℃ 恒溫區長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃ 單點溫度穩定性、重復性:≤±1.5℃/24h 溫度斜變:可控升溫速率20℃/min, 可控降溫速率:5℃/min 送片裝置:全自動懸臂推拉舟、拉桿是推拉舟、手動推拉 氣路系統:1—5路工藝氣體/管 氣體控制:全自動MFC、手動浮子流量計 控制方式:工控機、觸摸屏 |